从另一个维度看：世界是由无数的0和1组成。

芯片，作为处理这些海量0与1字符串数据的核心，其内部结构是由几百万甚至几十亿个晶体管构成的复杂网络。

1961年，Fairchild（仙童公司）第一款芯片上只有4个晶体管。2024年，国际固态电路大会（ISSCC 2024）上，台积电正式公布了先进封装技术，该技术有望将晶体管数量从目前的1000亿个提升到1万亿个。

从4到1万亿，更强大的计算能力，却只需要更低的运算成本，这或许正是摩尔定律的魅力所在。

而维持摩尔定律的关键，正是光刻机。

光刻机：芯片界的“微雕艺术家”

想象一下，用笔在纸上绘制出仅头发丝万分之一粗细的图案，这需要极其精细的技艺和稳定的心神。光刻机正是在纳米尺度上进行这种精细创作的“艺术家”。光刻机利用激光作为“画笔”，在硅片上“绘制”出复杂的电路图案，其原理类似于童年时代的阳光印刷，通过光线的穿透和遮挡，将设计图案精准地转移到硅片上。

光刻工艺是半导体制造中最为关键的环节之一，它通过图形转移技术，为芯片的制造奠定了基础。

1）首先，晶圆经过涂胶显影设备的预处理，如脱水烘焙，在表面涂覆光刻胶，并进行软烘干；

2）然后，晶圆被送入光刻机，经过精确的扫描对准，光线透过掩膜版对光刻胶进行曝光，形成所需的图案；

3）最后，晶圆返回涂胶显影设备，通过显影液处理，使曝光区域的光刻胶溶解，形成电路图案，随后进行硬烘干和后续的刻蚀或离子注入工艺，完成整个光刻过程。

光刻工艺不仅在芯片生产流程中占据核心地位，而且光刻机本身也是技术的集大成者。

从成本角度来看，光刻工序在整个集成电路制造过程中占有重要比重，通常需要进行20至30次，占总成本的30%，且耗费的时间约占整个硅片工艺的40%至60%。

高技术壁垒下的“三国演义”市场格局

目前，全球光刻机市场由ASML、Nikon和Canon三家公司主导，形成了高集中度的市场格局。2023年，这三家公司的光刻机销售量分别为449台、45台和187台，总计681台，显示了它们在市场上的主导地位。

EUV（极紫外）光刻技术作为市场上最先进的光刻技术，能够制造7nm及以下工艺的芯片。ASML作为全球唯一能够生产EUV光刻机的公司，其技术领先地位为市场带来了新的增长点。同时，其他光刻技术如ArF浸没式光刻、多镜头投影光学系统等也在不断发展，为市场提供了多样化的选择。

市场数据统计显示，2018至2022年间，三大光刻机供应商的营收总额从123亿美元增长至198亿美元，年复合增长率（CAGR）达到了13%。预测数据指出，2017至2026年，全球光刻机市场规模将从约83亿美元增长至约310亿美元，年复合增长率（CAGR）大约为15.8%，总体呈上升趋势。

数据来源：Gartner，《半导体制造光刻机发展分析》，平安证券研究所

创新驱动着芯片需求的增长。随着人工智能、物联网、5G通信、自动驾驶等新兴技术的快速发展，对高性能芯片的需求不断攀升。这些技术对芯片的计算能力、功耗和集成度提出了更高的要求，推动着半导体技术的持续进步。

芯片产业的供应链错综复杂，涉及全球范围内的合作与分工。一颗芯片的诞生，可能始于加州或中国的工程师团队，他们或使用美国设计软件，根据英国公司提供的蓝图进行设计。设计完成后，可能在中国台湾的工厂进行生产，该工厂从日本采购超纯硅片及特殊气体，利用荷兰公司制造的光刻机，将设计精准地刻画在硅片上。这些高性能芯片在东南亚完成封装与测试后，被运往全球各地，应用于手机、电脑、汽车等多种产品。

芯片，已成为现代生活不可或缺的一部分。

国产光刻机的漫长征程

在全球光刻机市场中，中国正逐渐成为一股不可忽视的力量。多年来的不懈努力，使得中国光刻机技术取得了显著进步。2019年，上海微电子成功研发出我国首台分辨率达到28纳米的国产光刻机，打破了国际巨头在高端光刻机市场的垄断。在光刻机产业链上游，中国也取得了关键性的突破，尤其是在双工件台、光源和光学镜头等关键子系统方面。

这些突破不仅为中国半导体产业注入了新的活力，也为全球光刻机市场带来了新的竞争力量。跑狗图555436www跑狗王中王大科技研究总监王贵重指出，半导体有很强的国产替代逻辑。作为国家战略性产业，半导体行业是国家竞争力的重要组成部分，预计将持续受到政策和产业的推动。从半导体到信息创新，从高端准备到新材料，特别是在光刻机这样的关键环节，全面国产化是未来发展的必然趋势。

展望未来，预期光刻机等关键技术问题将得到解决，有助于进一步推动先进制程的扩产。市场将密切关注下游终端需求的复苏力度，以及国产算力芯片及设备等国产份额的提升节奏。同时，也需关注潜在风险因素对板块的影响。整体而言，预计未来板块将走向分化，那些能够实现业绩和兑现逻辑的公司将展现出更好的持续性。

根据市场研究机构的数据，2019年中国进口光刻机数量超过400台，占全球市场份额的近30%。这表明，中国在光刻机技术方面已取得显著进展，但仍需继续努力，以提升国产光刻机的性能和市场占有率。

政府出台的一系列政策，如资金补助、税收优惠、人才培养等，为半导体产业的发展提供了有力支持。这些政策有助于推动国产光刻机的研发和产业化，减少对外依赖，提升国内半导体产业的整体竞争力。

国产光刻机的崛起，预示着市场将迎来新的活力和增长潜力。

*风险提示：基金投资需谨慎。投资人应当阅读《基金合同》《招募说明书》《产品资料概要》等法律文件，了解基金的风险收益特征，特别是特有风险，并根据自身投资目的、投资经验、资产状况等判断是否和自身风险承受能力相适应。基金管理人承诺以诚实信用、谨慎尽责的原则管理和运用基金资产，但不保证基金一定盈利或本金不受损失。过往业绩不预示其未来业绩，其他基金业绩不构成本基金业绩的保证。